назад
Оборудование
AWP™ Оборудование
Asahi AWP™-2530 AA - Процессор для водовымывных фотополимерных пластин

Максимальный формат пластин: 635×762 мм при толщине 1,14 мм и 1,70 мм

 

Новый процессор для водовымывных флексографских фотополимерных пластин AWP™-2530 AA разработан в соответствии с высочайшими стандартами качества, предъявляемыми современными типографиями. Комбинация конструкции процессора и технологии обработки пластин способствует обеспечению стабильного качества печатных форм, получению ярких цветов и улучшению передачи растровых изображений с высокой линиатурой во флексографской печати. Кроме того, водовымывной процессор AWP™-2530 AA представляет собой экологически безопасное решение, направленное на дальнейшее развитие флексографской печати при сохранении баланса окружающей среды.

 

Скачать брошюру целиком
Asahi AWP™ 4260 PLF

AWP™-4260 PLF – автоматический комбинированный проявочный процессор, разработанный для пластин AWP™-DEW и оснащенный автоматическим устройством для пробивки отверстий, сушкой и секцией постэкспонирования. Можно приобрести процессор без секции постэкспонирования. Он предназначен для обработки водовымывных пластин AWP™-DEW толщиной от 1,14 до 1,70 мм двух стандартных форматов: 1200×900 мм или 1067×1524 мм.
Технология промывки водой AWP™ обеспечивает наименьший углеродный след в течение всего срока службы форм по сравнению с альтернативными технологиями их изготовления.

Скачать брошюру целиком
Asahi AWP™ 4835 P

Для флексографских пластин максимального формата 35×48 дюймов/90×120 см

 

Формный процессор AWP™ 4835 P создан для этикеточных типографий, работающих в форматах до 90×120 см/35×48 дюймов. При небольшом времени изготовления формы он обеспечивает ее стабильное качество. В водовымывном процессоре AWP™ 4835 P потребление природной воды сведено к минимуму, что дает возможность назвать его экологически безопасным решением для изготовления флексографских печатных форм.

 

Скачать брошюру целиком
Сольвентовымывные процессоры, системы экспонирования, сушки и секции постэкспонирования сторонних производителей
Линия Evo2 Для флексографских пластин макс. формата 25×30 дюймов/63,5×76,2 см
Комплекс Evo2

Универсальная система. Двойной резервуар для проявочного раствора. Высокочастотное УФ-излучение. Охлаждаемое ложе. Интегратор светового потока.

 

Универсальная CTP-система Evo2 с отдельной секцией предварительной промывки представляет собой однопроходный линейный формный процессор с УФ-излучением высокой мощности (30 мВт/см²), интегратором светового потока и системой охлаждения ламп. Процессор оснащен системой транспортировки пластин с серводвигателем, обеспечивающей хороший результат промывки, и объемным насосом для обеспечения правильного затвердевания полимера. Четыре выдвижные сушки предотвращают утечку воздуха. Таким образом, быстрее достигается необходимая для сушки температура. Дополнительная засветка УФ-лучами спектров А и С может выполняться последовательно или одновременно и контролируется оптоволоконным датчиком.

посещение завода
Линия Evo3

Для флексографских пластин максимального формата 35×48 дюймов/90×120 см

 

СТР-система Evo3

 

СТР-система Evo3 представляет собой масштабируемое устройство с секцией предварительной промывки и отдельным резервуаром. Во время промывки пластины движутся с постоянной скоростью. Встроенная система пробивки отверстий, планки со штифтами для удержания до 8 пластин и держатель пластин в стандартной комплектации предотвращают их падение на пол.

посещение завода
Устройство экспонирования, сушки и дополнительной засветки Evo3

Устройство экспонирования, сушки и дополнительной засветкиEvo3 представляет собой единую систему с секцией экспонирования, четырьмя встроенными выдвижными сушками и секцией дополнительной засветки. Оно поставляется с автоматизированным и ручным вариантами открывания крышки. Секция экспонирования включает в себя систему циркуляции воды и охлаждения ложа, обеспечивающую одинаковую постоянную температуру, и вакуумную систему для аналоговых пластин. УФ-лампы спектра А обеспечивают мощность излучения до 30 мВт/см². Время экспонирования определяется интегратором светового потока, способного работать как в мДж, так и в секундах. Сушка оснащена опцией автоматического предварительного нагрева с автоматическим отключением после обработки последней пластины в заказе. Устройство дополнительной засветки оснащено воздушной системой охлаждения с параллельной или комбинированной УФ-засветкой лучами спектра А и С. Функционирование УФ-ламп контролируется оптоволоконным датчиком.

посещение завода
Линия Evo5 Для флексографских пластин макс. формата 47×33 дюйма/120×160 см
СТР-система Evo5

СТР-система Evo5 представляет собой масштабируемое устройство с секцией предварительной промывки и отдельным резервуаром. Во время промывки пластины движутся с постоянной скоростью. Встроенная система пробивки отверстий, планки со штифтами для удержания до 8 пластин и держатель пластин в стандартной комплектации предотвращают их падение на пол. Система Evo5 доступна для заказа с более быстрым серийным процессором (BP).

посещение завода
Секция экспонирования Evo5

Секция экспонирования Evo5 поставляется со встроенным охладителем с контролем температуры и воздушным охлаждением ламп. Двустворчатая конструкция с пневматическим открыванием крышки гарантирует легкое открывание и предотвращает случайное падение крышки. Интегратор светового потока обеспечивает УФ-излучение высокой мощности, постоянства и равномерности, автоматически компенсируя расхождения. Устройство может работать в мДж или в секундах.

посещение завода
Устройство дополнительной засветки и сушки Evo5

Устройство дополнительной засветкии сушки Evo5 состоит из двух отдельных секций. Секция сушки оснащена шестью выдвижными сушками с отдельными нагревателями на каждую пару сушек для поддержания постоянной температуры. В стандартной комплектации поставляются встроенная вытяжная система и сенсорный экран. Устройство может оснащаться опцией программируемого нагрева и автоматического отключения после обработки последней пластины.

Устройство дополнительной засветки УФ-лучами спектра А и С оснащено оптоволоконным датчиком работы ламп и может устанавливаться на секцию сушки для уменьшения габаритных размеров аппарата.

посещение завода
APR™ Оборудование
Экспонирующее устройствоAsahiAWF 110 Системы для изготовления форм APR™
AWF 110 E

Секция формирования/экспонирования

 

Все этапы процесса формирования/экспонирования пластины можно задавать и контролировать с помощью программируемого контроллера и визуального отображения на сенсорном экране. Пластины APR™ можно производить толщиной 1,7-8,0 мм с шагом 0,01 мм.

Скачать брошюру целиком
AWF 110 W

Формный процессор

 

Формный процессор AWF 110 W состоит из трех секций, работающих независимо одна от другой. Пластина вручную переносится из одного модуля в другой. Для гарантии беспроблемной работы пластина закрепляется в держатель, закрепляемый в нужной секции. Процессор оснащен системой восстановления жидкого полимера.

Скачать брошюру целиком
AWF 110 T

Резервуар для фотополимера

 

Для обеспечения непрерывной работы используются три резервуара для подачи фотополимера – два для базового фотополимера, емкостью 90 л каждый, и один – для гуммирующего фотополимера, емкостью 18 л. Все резервуары оснащены датчиками уровня и соответствующими нагревателями, а резервуары для базового фотополимера – перемешивающим устройством.

Скачать брошюру целиком
Экспонирующее устройство AsahiASF 1216 Системы для изготовления форм APR™
ASF 1216 E

Секция формирования/экспонирования

 

Все этапы процесса формирования/экспонирования пластины можно задавать и контролировать с помощью программируемого контроллера и визуального отображения на сенсорном экране.

Скачать брошюру целиком
ASF 1216 P

Формный процессор

 

Формный процессор состоит из пяти модулей, работающих независимо один от другого. Каждый из них оснащен цилиндром, к которому крепится пластина APR™. От одного модуля к другому оператор переносит пластину вручную. Все функции выполняются последовательно и управляются через свободно программируемый контроллер.

Скачать брошюру целиком
ASF 1216 T

Резервуар для фотополимера

 

Для обеспечения непрерывной работы используются два резервуара для жидкого базового фотополимера емкостью 200 л каждый.

Скачать брошюру целиком
Обратиться: info@asahi-photoproducts.com
Thank you for downloading!
x
Download