Меню
AWP™-4260 PLF – автоматический комбинированный проявочный процессор, разработанный для пластин AWP™-DEW и оснащенный автоматическим устройством для пробивки отверстий, сушкой и секцией постэкспонирования. Можно приобрести процессор без секции постэкспонирования. Он предназначен для обработки водовымывных пластин AWP™-DEW толщиной от 1,14 до 1,70 мм двух стандартных форматов: 1200×900 мм или 1067×1524 мм.
Технология промывки водой AWP™ обеспечивает наименьший углеродный след в течение всего срока службы форм по сравнению с альтернативными технологиями их изготовления.
Для флексографских пластин максимального формата 35×48 дюймов/90×120 см
Формный процессор AWP™ 4835 P создан для этикеточных типографий, работающих в форматах до 90×120 см/35×48 дюймов. При небольшом времени изготовления формы он обеспечивает ее стабильное качество. В водовымывном процессоре AWP™ 4835 P потребление природной воды сведено к минимуму, что дает возможность назвать его экологически безопасным решением для изготовления флексографских печатных форм.
Максимальный формат пластин: 635×762 мм при толщине 1,14 мм и 1,70 мм
Новый процессор для водовымывных флексографских фотополимерных пластин AWP™-2530 AA разработан в соответствии с высочайшими стандартами качества, предъявляемыми современными типографиями. Комбинация конструкции процессора и технологии обработки пластин способствует обеспечению стабильного качества печатных форм, получению ярких цветов и улучшению передачи растровых изображений с высокой линиатурой во флексографской печати. Кроме того, водовымывной процессор AWP™-2530 AA представляет собой экологически безопасное решение, направленное на дальнейшее развитие флексографской печати при сохранении баланса окружающей среды.
Сольвентовымывные процессоры, системы экспонирования, сушки и секции постэкспонирования сторонних производителей
Для флексографских пластин макс. формата 25×30 дюймов/63,5×76,2 см
Универсальная система. Двойной резервуар для проявочного раствора. Высокочастотное УФ-излучение. Охлаждаемое ложе. Интегратор светового потока.
Универсальная CTP-система Evo2 с отдельной секцией предварительной промывки представляет собой однопроходный линейный формный процессор с УФ-излучением высокой мощности (30 мВт/см²), интегратором светового потока и системой охлаждения ламп. Процессор оснащен системой транспортировки пластин с серводвигателем, обеспечивающей хороший результат промывки, и объемным насосом для обеспечения правильного затвердевания полимера. Четыре выдвижные сушки предотвращают утечку воздуха. Таким образом, быстрее достигается необходимая для сушки температура. Дополнительная засветка УФ-лучами спектров А и С может выполняться последовательно или одновременно и контролируется оптоволоконным датчиком.
Для флексографских пластин максимального формата 35×48 дюймов/90×120 см
СТР-система Evo3
СТР-система Evo3 представляет собой масштабируемое устройство с секцией предварительной промывки и отдельным резервуаром. Во время промывки пластины движутся с постоянной скоростью. Встроенная система пробивки отверстий, планки со штифтами для удержания до 8 пластин и держатель пластин в стандартной комплектации предотвращают их падение на пол.
Устройство экспонирования, сушки и дополнительной засветки Evo3 представляет собой единую систему с секцией экспонирования, четырьмя встроенными выдвижными сушками и секцией дополнительной засветки. Оно поставляется с автоматизированным и ручным вариантами открывания крышки. Секция экспонирования включает в себя систему циркуляции воды и охлаждения ложа, обеспечивающую одинаковую постоянную температуру, и вакуумную систему для аналоговых пластин. УФ-лампы спектра А обеспечивают мощность излучения до 30 мВт/см². Время экспонирования определяется интегратором светового потока, способного работать как в мДж, так и в секундах. Сушка оснащена опцией автоматического предварительного нагрева с автоматическим отключением после обработки последней пластины в заказе. Устройство дополнительной засветки оснащено воздушной системой охлаждения с параллельной или комбинированной УФ-засветкой лучами спектра А и С. Функционирование УФ-ламп контролируется
Для флексографских пластин макс. формата 47×33 дюйма/120×160 см
СТР-система Evo5 представляет собой масштабируемое устройство с секцией предварительной промывки и отдельным резервуаром. Во время промывки пластины движутся с постоянной скоростью. Встроенная система пробивки отверстий, планки со штифтами для удержания до 8 пластин и держатель пластин в стандартной комплектации предотвращают их падение на пол. Система Evo5 доступна для заказа с более быстрым серийным процессором (BP).
Секция экспонирования Evo5 поставляется со встроенным охладителем с контролем температуры и воздушным охлаждением ламп. Двустворчатая конструкция с пневматическим открыванием крышки гарантирует легкое открывание и предотвращает случайное падение крышки. Интегратор светового потока обеспечивает УФ-излучение высокой мощности, постоянства и равномерности, автоматически компенсируя расхождения. Устройство может работать в мДж или в секундах.
Устройство дополнительной засветкии сушки Evo5 состоит из двух отдельных секций. Секция сушки оснащена шестью выдвижными сушками с отдельными нагревателями на каждую пару сушек для поддержания постоянной температуры. В стандартной комплектации поставляются встроенная вытяжная система и сенсорный экран. Устройство может оснащаться опцией программируемого нагрева и автоматического отключения после обработки последней пластины. Устройство дополнительной засветки УФ-лучами спектра А и С оснащено оптоволоконным датчиком работы ламп и может устанавливаться на секцию сушки для уменьшения габаритных размеров аппарата.
Секция формирования/экспонирования
Все этапы процесса формирования/экспонирования пластины можно задавать и контролировать с помощью программируемого контроллера и визуального отображения на сенсорном экране. Пластины APR™ можно производить толщиной 1,7-8,0 мм с шагом 0,01 мм.
Формный процессор
Формный процессор AWF 110 W состоит из трех секций, работающих независимо одна от другой. Пластина вручную переносится из одного модуля в другой. Для гарантии беспроблемной работы пластина закрепляется в держатель, закрепляемый в нужной секции. Процессор оснащен системой восстановления жидкого полимера.
Резервуар для фотополимера
Для обеспечения непрерывной работы используются три резервуара для подачи фотополимера – два для базового фотополимера, емкостью 90 л каждый, и один – для гуммирующего фотополимера, емкостью 18 л. Все резервуары оснащены датчиками уровня и соответствующими нагревателями, а резервуары для базового фотополимера – перемешивающим устройством.
Системы для изготовления форм APR™
Секция формирования/экспонирования
Все этапы процесса формирования/экспонирования пластины можно задавать и контролировать с помощью программируемого контроллера и визуального отображения на сенсорном экране.
Формный процессор
Формный процессор состоит из пяти модулей, работающих независимо один от другого. Каждый из них оснащен цилиндром, к которому крепится пластина APR™. От одного модуля к другому оператор переносит пластину вручную. Все функции выполняются последовательно и управляются через свободно программируемый контроллер.
Резервуар для фотополимера
Для обеспечения непрерывной работы используются два резервуара для жидкого базового фотополимера емкостью 200 л каждый.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.
Please fill in the fields below to gain access to the requested document.